Commercial delivery

Oferowane produkty

ATON MOS

(oczyszczanie i utlenianie gazów poprocesowych oraz usuwanie odorów)

  • MOS (Microwave Oxidation Treatment) to technologia dopalania gazów poprocesowych. Znajduje szerokie pole zastosowań na płaszczyźnie neutralizowania szkodliwych zanieczyszczeń gazów oraz neutralizacji odorów, a także unieszkodliwiania pyłów.
  • Technologia prosta we wdrożeniu u odbiorców

Wykorzystana m.in. w przemyśle chemicznym, spożywczym, recyclingu, wydobywczym, petrochemicznym.

ATON HR

(unieszkodliwianie zanieczyszczeń pochodzenia naftowego)

  • Urządzenia ATON HR doskonale neutralizują szkodliwe związki w atmosferze utleniającej, w skoncentrowanym polu mikrofalowym.
  • Możliwość ustawienia trzech podstawowych parametrów (temperatura, ilość i jakość dostarczanej atmosfery) do potrzeb odbiorców
  • Stosowane w np.: neutralizacji zanieczyszczeń ropopochodnych, oczyszczaniu piasku, i gruntów. Po oczyszczeniu materiały nośne mogą być ponownie użyte, nie stanowiąc żadnego zagrożenia dla ludzi i środowiska.

Linia technologiczna

Opracowana linia technologiczna składa się z szeregu urządzeń rozmieszczonych w 6 kontenerach w następującej konfiguracji.

Urządzenie HR

W reaktorze HR odpady są poddawane termicznej obróbce. Gazy, które są emitowane w trakcie procesu są bezpośrednio kierowane do reaktora MOS, w którym są odpowiednio dopalone i oczyszczone. Końcowy produkt tego procesu to węgiel i popioły.

Mikrofalowa technologia termicznej obróbki odpadów ma kilka ważnych zalet, które stanowią podstawę znacznej przewagi konkurencyjnej:

  • Minimalizacja odpadu – produkt poprocesowy (redukcja masy i objętości) ,
  • Oszczędna energetycznie – bezpośrednie nagrzewanie materiału w całej objętości
  • Nie emituje odorów – wszystkie składniki wonne ulegają oksydacji w segmencie MOS
  • Przewoźna – możliwość transportu urządzeń w miejsce występowania odpadów.
  • „Zerowa” emisja CO2 do środowiska – brak dodatkowego paliwa, emisja stechiometryczna z materiału;

Urządzenie MOS

Oczyszczanie gazów za pomocą opisanej wyżej technologii MOS jest realizowane w reaktorach MOS. Są to proste konstrukcyjnie urządzenia do dopalania zanieczyszczeń w gazach odlotowych z instalacji przemysłowych. Reaktor ma za zadanie dopalenie związków organicznych (węglowodorów)  oraz innych lotnych substancji chemicznych, emitowanych w trakcie typowych procesów spalania .

Materiał ceramiczny umieszczony wewnątrz komory reaktora MOS nagrzewany jest mikrofalami do temperatury ok. 1000⁰C i oczyszczane gazy poprocesowe w trakcie turbulentnego przepływu przez to złoże ceramiczne są nagrzewana do wysokich temperatur w środowisku utleniającym. Silnie nagrzana ceramika ma przy tym dodatkowe działanie katalizujące proces oksydacji.